Заменители для Isadora Active All Day Wear Make-Up Foundation

Мы нашли 8 заменителей для Isadora Active All Day Wear Make-Up Foundation по составу и свойствам. Они также содержат , Dimethicone, Polymethyl Methacrylate, Polymethylsilsesquioxane.

Всего найдено: 8

Немного больше Dimethicone Позиция 1 vs. 2
Меньше Polymethyl Methacrylate Позиция 6 vs. 3
Меньше Polymethylsilsesquioxane Позиция 5 vs. 4
Меньше Dimethicone Позиция 3 vs. 2
Намного меньше Polymethyl Methacrylate Позиция 19 vs. 3
Намного меньше Polymethylsilsesquioxane Позиция 39 vs. 4
Меньше Dimethicone Позиция 3 vs. 2
Намного меньше Polymethyl Methacrylate Позиция 13 vs. 3
Намного меньше Polymethylsilsesquioxane Позиция 28 vs. 4
Wardah Lightening Liquid Foundation
Wardah
Lightening Liquid Foundation
26 компонентов
Меньше Dimethicone Позиция 3 vs. 2
Намного меньше Polymethyl Methacrylate Позиция 8 vs. 3
Намного меньше Polymethylsilsesquioxane Позиция 16 vs. 4
Намного меньше Dimethicone Позиция 7 vs. 2
Намного меньше Polymethyl Methacrylate Позиция 12 vs. 3
Намного меньше Polymethylsilsesquioxane Позиция 9 vs. 4
Il Makiage Flawless Base Foundation
Il Makiage
Flawless Base Foundation
34 компонента
Меньше Dimethicone Позиция 3 vs. 2
Намного меньше Polymethyl Methacrylate Позиция 13 vs. 3
Намного меньше Polymethylsilsesquioxane Позиция 28 vs. 4
M.A.C. Studio Sculpt SPF 15 Foundation
M.A.C.
Studio Sculpt SPF 15 Foundation
50 компонентов
Намного меньше Dimethicone Позиция 28 vs. 2
Намного меньше Polymethyl Methacrylate Позиция 36 vs. 3
Меньше Polymethylsilsesquioxane Позиция 8 vs. 4
Меньше Dimethicone Позиция 6 vs. 2
Намного меньше Polymethyl Methacrylate Позиция 12 vs. 3
Намного меньше Polymethylsilsesquioxane Позиция 13 vs. 4
Skinsignal
2023 - 2025

Самый продвинутый анализатор составов косметики в Рунете. Сообщество любителей по уходу за кожей.

Внимание: вся информация на сайте носит ознакомительный характер и не может расцениваться как руководство к действию. При наличии проблем с кожей получите консультацию врача.

skinsignalapp@gmail.com

Политика конфиденциальности Условия использования